GB/T 10067.101-2023
電熱和電磁處理裝置基本技術(shù)條件 第101部分：真空電熱和電磁處理裝置的通用要求
Basic technical conditions for electrothermal and electromagnetic treatment devices Part 101: General requirements for vacuum electrothermal and electromagnetic treatment devices
GBT10067.101-2023, GB10067.101-2023
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- GB/T 10067.101-2023
- 別名
- GBT10067.101-2023, GB10067.101-2023
- 發(fā)布
- 2023年
- 總頁數(shù)
- 40頁
- 發(fā)布單位
- 國家質(zhì)檢總局
- 當(dāng)前最新
- GB/T 10067.101-2023
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 10066.1-2019 GB/T 10067.1 GB/T 10067.35 GB/T 150.1 GB/T 5959.1 ISO 1609:2020 ISO 9803 JB/T 9691
- 適用范圍
- 本文件規(guī)定了各類真空電熱和電磁處理裝置（VEHEMPI)通用的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存、訂購與供貨，并描述了對(duì)應(yīng)的試驗(yàn)方法。 本文件適用于在低、中和高真空氣氛中對(duì)工作負(fù)荷進(jìn)行熔煉、熱處理、釬焊、燒結(jié)、晶體生長、成型和干燥等熱工藝的工業(yè)用電熱和電磁處理裝置，包括： 真空感應(yīng)爐； 真空電阻爐； 真空重熔電弧爐； 真空電渣重熔爐； 具有電子槍的電熱裝置； 真空等離子爐； 真空微波加熱裝置； 真空電磁處理裝置等。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| 真空電熱設(shè)備 vacuum electroheating equipment; VEHE | 具有密閉真空室，在真空狀態(tài)下工作的電熱設(shè)備。 |
| 真空電熱裝置 vacuum electroheating installation; VEHI | 由真空電熱設(shè)備及其在操作和使用中所必需的，包括真空系統(tǒng)在內(nèi)的電氣和機(jī)械附屬設(shè)備所組成的成套裝置。 |
| 真空電磁處理設(shè)備 vacuum electromagnetic processing equipment; VEMPE | 具有密閉真空室，在真空狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行電磁處理的設(shè)備。 |
| 真空電磁處理裝置 vacuum electromagnetic processing installation; VEMPI | 由真空電磁處理設(shè)備及其在操作和使用中所必需的，包括真空系統(tǒng)在內(nèi)的電氣和機(jī)械附屬設(shè)備所組成的成套裝置。 |
| 真空系統(tǒng)（真空電熱和電磁處理裝置） vacuum system (of vacuum EH and EMP installation); VEHEMPI | 為VEHEMPI提供真空,由爐室（真空室）、抽氣系統(tǒng)以及測(cè)試和控制真空等元件組成的真空裝置。 |
| 真空室 vacuum chamber | 真空容器 根據(jù)力學(xué)計(jì)算能允許容器的壓力低于環(huán)境壓力的密封容器。注：在其內(nèi)進(jìn)行電熱或電磁處理的真空室稱主真空室。 |
| 抽氣系統(tǒng) vacuum pump system; vacuum機(jī)組 | 為在真空室產(chǎn)生真空，由真空泵、真空閥門、真空管道、真空附件、廢氣排放和處理裝置等組成的系統(tǒng)。 |
| 真空室極限壓力 ultimate pressure of vacuum chamber | 抽氣系統(tǒng)工作時(shí),空載、干燥的真空室逐漸接近、達(dá)到并維持穩(wěn)定的最低壓力。 |
| 真空室工作壓力 working pressure of vacuum chamber | 在真空室中為滿足實(shí)施應(yīng)用工藝要求所必需的壓力。注：真空室工作壓力也可用壓力范圍表示。 |
| 真空室的抽速 volumetric flow rate of vacuum chamber | 在真空室抽氣口處測(cè)得的抽氣系統(tǒng)的抽速。 |
GB/T 10067.101-2023 中提到的儀器設(shè)備
| 具有電子槍的電熱裝置 | 適用于熔煉耐熔和活潑金屬如鎢、鉬等，以及工件的熱處理和真空蒸鍍。工作最高溫度為3550℃，工作電壓范圍為5000～50000V。 |
| 真空微波干燥裝置 | 用于食品、農(nóng)產(chǎn)品等的低溫干燥和滅菌。工作溫度范圍為20~120℃。 |
| 真空感應(yīng)爐 | 適用于特種合金鋼、鎳基高溫合金、鈦合金等的熔煉和澆鑄，工作溫度范圍為1200～1700℃，工作電壓為375~600V（中頻）。 |
| 真空電阻爐 | 用于金屬材料或工件的淬火、回火、退火等熱處理，以及單晶硅生長和不銹鋼、鋁和高溫合金的釬焊。工作溫度范圍為100~2200℃，工作電壓為15~250V。 |
| 真空重熔電弧爐 | 用于熔煉高級(jí)合金鋼及鈦、鋯等活潑金屬和合金。工作溫度范圍為2180~3980℃（電弧區(qū)陽極斑點(diǎn)溫度）。 |
其他標(biāo)準(zhǔn)
專題
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GB/T 10067.34-2015 電熱裝置基本技術(shù)條件 第34部分:晶體管式高頻感應(yīng)加熱裝置
GB/T 10067.35-2015 電熱裝置基本技術(shù)條件 第35部分:中頻真空感應(yīng)熔煉爐
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GB/T 10067.411-2014 電熱裝置基本技術(shù)條件 第411部分:電熱浴爐
GB/T 10067.412-2015 電熱裝置基本技術(shù)條件 第412部分:箱式淬火爐
GB/T 10067.413-2015 電熱裝置基本技術(shù)條件 第413部分:實(shí)驗(yàn)用電阻爐
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