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AWWA ACE60052
紫外線和氯/氯胺連續(xù)暴露導(dǎo)致的 THM 和 HAA 形成

THMs and HAAs Formation from UV and Chlorine/Chloramine Sequential Exposure

標準號: AWWA ACE60052
發(fā)布: 1970年
發(fā)布單位: SCC
當前最新: AWWA ACE60052

適用范圍: 在水處理中順序使用多種消毒劑是一種有前途的方法來滅活病原體并最大限度地減少消毒副產(chǎn)物 (DBP)，同時提供必要的殘留保護。這項研究評估了在兩個序列和中性 pH 下，腐殖酸溶液順序暴露于低壓紫外線照射和游離氯或一氯胺過程中三鹵甲烷 (THM) 和鹵乙酸 (HAA) 的形成情況。還測量了 DBP 形成潛力 (DBPFP)。在隨后的游離氯或一氯胺暴露過程中，預(yù)先紫外線照射在一定程度上增加了 DBP 的形成。隨著紫外線劑量的增加，DBP 的額外產(chǎn)量增加。當在紫外線照射之前添加游離氯或一氯胺時，觀察到更高的 DBP 形成。當測量消毒副產(chǎn)物形成潛力 (DBPFP) 時，證明紫外線照射對 THM 和 HAA 形成的貢獻更為顯著。包括 8 個參考文獻、表格、圖表。

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